Black Baron

Современная полупроводниковая индустрия стремительно приближается к новым рубежам миниатюризации. Производственные нормы, приближающиеся к 2-нм и ниже, требуют применения передовых технологий. Одной из ключевых разработок в этом направлении стали литографические сканеры нового поколения, использующие экстремально ультрафиолетовое излучение высокой числовой апертуры (High-NA EUV). 

Компания Samsung Electronics сделала важный шаг в этом направлении, получив первый экземпляр столь сложного оборудования.

Как сообщают южнокорейские СМИ, Samsung получила первый литографический сканер ASML TwinScan EXE:5000, предназначенный для работы с технологией High-NA EUV. Оборудование установлено на одном из ключевых производственных предприятий компании, расположенном в Хвасоне. 

Получение этого оборудования открывает перед Samsung новые возможности в разработке и тестировании полупроводников по техпроцессу менее 2 нм.

Становление технологий High-NA EUV — это важнейший этап в эволюции полупроводниковой отрасли. Такие сканеры обеспечивают более высокую точность нанесения шаблонов на кремниевые пластины, что критически важно при создании сверхплотных структур транзисторов нового поколения. 

Благодаря увеличенной числовой апертуре повышается разрешающая способность оборудования, что делает возможным массовое производство микросхем по самым передовым техпроцессам.

Следует отметить, что Samsung не единственный игрок, нацеленный на внедрение этой технологии. Аналогичные установки уже имеются у Intel на фабрике в Орегоне, а также интерес к ним проявляет и TSMC. По прогнозам, массовое внедрение High-NA EUV в производство может начаться у TSMC ближе к 2028 году, в то время как Intel планирует сделать это раньше, сохраняя амбициозное лидерство в отрасли.

Между тем, актуальные рыночные позиции также играют важную роль. Согласно данным аналитической компании TrendForce, в четвёртом квартале прошлого года доля Samsung на рынке контрактного производства чипов составила 8,1 %, потеряв около одного процентного пункта. В то же время TSMC смогла нарастить свою долю до 67,1 %, укрепив лидерство. Снижение выручки Samsung до $3,26 млрд (-1,4 %) подчеркивает необходимость инвестиций в передовые технологии, чтобы сохранить конкурентоспособность.

Получение литографического сканера High-NA EUV — важный стратегический шаг для Samsung Electronics. Освоение новых техпроцессов позволяет компании готовиться к будущим требованиям отрасли, укреплять свои позиции на мировом рынке и сокращать технологическое отставание от конкурентов.

В условиях нарастающей конкуренции между ведущими производителями полупроводников такие инвестиции становятся не просто желательными, а жизненно необходимыми для долгосрочного успеха и технологического лидерства.