Полупроводниковая индустрия переживает очередной технологический прорыв. В рамках симпозиума VLSI 2025 компания Intel представила подробности своего амбициозного проекта — техпроцесса Intel 18A, который призван вернуть американскому гиганту позиции в гонке за самые передовые производственные технологии. Этот шаг особенно важен в контексте растущей конкуренции с тайваньской TSMC, которая в последние годы доминирует на рынке производства самых современных чипов.
Диаграмма эффективности Intel 18A
Технические характеристики и преимущества
Новый техпроцесс Intel 18A, эквивалентный 1,8-нанометровому техпроцессу, демонстрирует значительный прогресс по сравнению с предыдущим поколением Intel 3. Главные достижения включают:
Повышение плотности размещения элементов на 30% — это означает, что на том же кристалле можно разместить больше транзисторов, что напрямую влияет на производительность и функциональность чипов.
Рост производительности до 25% без увеличения рабочего напряжения — критически важная характеристика для современных высокопроизводительных систем.
Снижение энергопотребления на 36% при работе на частотах с напряжением 1,1 В по сравнению с Intel 3, что особенно актуально для мобильных устройств и энергоэффективных решений.
Инновационные технологии
Техпроцесс Intel 18A построен на двух ключевых технологических решениях:
Транзисторы RibbonFET второго поколения — это gate-all-around (GAA) транзисторы, которые обеспечивают лучший контроль над прохождением тока и снижают утечки.
Технология PowerVia (BSPDN) — революционная система подачи питания, которая перемещает силовые цепи на обратную сторону кристалла. Это решение впервые применяется в массовом производстве и предоставляет несколько преимуществ:
- Физическое разделение силовых и сигнальных проводников
- Улучшенная эффективность транзисторов
- Более плотная компоновка логических элементов
- Оптимизированный теплоотвод
- Упрощение процесса проектирования микросхем
Cравнение двух технологий Intel-3 и Intel-18A
Области применения и перспективы
Intel 18A разработан как универсальная платформа для широкого спектра применений — от высокопроизводительных серверных решений для дата-центров до потребительских процессоров линейки Panther Lake, анонс которых ожидается в конце текущего года.
Однако существуют определенные технические особенности, которые необходимо учитывать. Изменение диапазона рабочих напряжений (0,4 В, 0,75 В и 1,1 В против <0,6 В, 0,75 В, 1,1 В и 1,3 В у Intel 3) может повлиять на применимость технологии в различных сегментах рынка.
Рыночная стратегия
Intel активно работает над привлечением сторонних заказчиков для производства на базе технологии 18A. Уже достигнуто соглашение с Microsoft по выпуску продукции на новом технологическом узле, а другие крупные компании рассматривают возможности сотрудничества.
Массовое производство на базе Intel 18A планируется запустить во второй половине 2025 года, что совпадает с аналогичными планами TSMC для их 2-нанометрового процесса.
Intel-18A PMOS и Cross-sectional SLM
Представление техпроцесса Intel 18A знаменует важный этап в стратегии Intel по возвращению технологического лидерства. Впервые за долгое время американская компания предлагает решение, способное конкурировать с самыми передовыми разработками TSMC. Успех этой технологии будет во многом зависеть от способности Intel привлечь крупных заказчиков и обеспечить стабильное массовое производство.
Технологические новации, такие как PowerVia и усовершенствованные GAA-транзисторы, могут стать основой для следующего поколения высокопроизводительных вычислительных систем. В контексте глобальной конкуренции и стремления к технологической независимости, появление конкурентоспособной альтернативы азиатским производителям имеет стратегическое значение для всей отрасли.
0 Комментарий(я)
Зарегистрируйтесь чтобы оставить комментарий